Yazar
Alsaeedi, Riaid, Güler, Zeynep Özdemir
Basım Tarihi
2018-11-15
Basım Yeri
-
Medb ag
Konu
Kimyasal mekanik parlatma, Biyouyumluluk, Yüzey yapılandırma
Tür
Süreli Yayın
Dil
İngilizce
Dijital
Evet
Yazma
Hayır
Kütüphane
Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası
1996-1944
Kayıt Numarası
d369b567-ab58-4635-9c45-f86bfdbb4d8e
Tarih
2018-11-15
Notlar
Diyala Üniversitesi
Örnek Metin
Kimyasal mekanik parlatma (CMP), biyouyumluluklarını kontrol etmek amacıyla titanyum bazlı implantların yüzey kimyasını ve topografisini değiştirmek için sinerjistik bir teknik olarak önceki çalışmalarda tanıtılmıştır. Bu çalışmada, CMP uygulamasının titanyum bazlı implant yüzey modifikasyonu üzerindeki etkinliği, yüzey kimyasal ve mekanik performansı açısından bazal ve aşındırma ve bifazik kalsiyum fosfat (BCP) parçacık bazlı kumlama işlemleri gibi işlenmiş implantlarla karşılaştırıldı. Başlangıçta, ticari diş implantı örnekleri üzerinde laboratuvar ölçekli bir 3D CMP tekniği geliştirildi ve optimize edildi. Seçilen yöntemlerle tedavi edilen diş implantlarının mekanik rekabet gücü, Vickers mikrosertlik testinin yanı sıra çekme kuvveti ve çıkarma tork kuvveti ölçümleriyle incelenmiştir. Ayrıca aritmetik ortalama pürüzlülük parametresinin (Ra) değerlendirilmesi yoluyla yüzey yapıları ölçüldü. Daha sonra tedavi edilen implantlardaki yüzey kimyası değişiklikleri temas açısı ölçümü ile ıslanabilirlik olarak incelendi ve yüzey pasivasyonu elektrokimyasal yöntemlerle değerlendirildi. Her değerlendirmede, CMP ile tedavi edilen numunelerin, başlangıçta makineyle işlenmiş implantlara ve ayrıca mevcut yöntem olan BCP tedavisine eşit veya onlardan daha iyi performans gösterdiği gözlemlendi. CMP tekniği kullanılarak yüzey topografyası ve kimyasının eş zamanlı olarak kontrol edilebilmesinin, yakın gelecekte implant yüzeylerinin modifikasyonuna uyarlanmasının motivasyonu olduğuna inanılmaktadır.
DOI
10.3390/ma11112286
Cilt
11
