CMP optimizasyonu için metal oksit nano film karakterizasyonu

İsim CMP optimizasyonu için metal oksit nano film karakterizasyonu
Yazar Başım, Gül Bahar, Karagöz, Ayşe, Özdemir, Zeynep
Basım Tarihi: 2013
Basım Yeri - ECS
Tür Belge
Dil İngilizce
Dijital Evet
Yazma Hayır
Kütüphane: Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası 978-1-60768-427-5
Kayıt Numarası 6e9c7e8a-b3f3-4661-b782-65ce21c3686b
Lokasyon Makine Mühendisliği
Tarih 2013
Notlar Telif hakkı kısıtlamaları nedeniyle bu makalenin tam metnine erişim yalnızca abonelik yoluyla mümkündür.
Örnek Metin Bu makale, prosesin kimyasal bileşeninin bir sonucu olarak oluşan metal oksit ince filmlerin incelenmesi yoluyla mikroelektronik üretiminde metalik filmlerin CMP ile düzlemselleştirilmesine odaklanmaktadır. Tungsten düzlemselleştirme, metal oksit nano filmlerin cilalama sırasındaki oluşum özellikleri yoluyla malzeme giderimi sağlamadaki rolünü belirlemek için bir model olarak tartışılmaktadır. Bulgular, tungsten üzerinde, yüksek oksitleyici konsantrasyonlarında çekirdeklenme eğiliminde olan ve bulamaçtaki nano parçacıkların yüzey oksit tepecikleri ile etkileşimi yoluyla malzemenin uzaklaştırılmasını sağlayan koruyucu bir oksit film oluşumunu göstermektedir.
DOI 10.1149/05039.0003ecst
Cilt 50
Kaynağa git Özyeğin Üniversitesi Özyeğin Üniversitesi - Tarihî eser, arşiv ve süreli yayın arama motoru
Özyeğin Üniversitesi - Tarihî eser, arşiv ve süreli yayın arama motoru Özyeğin Üniversitesi

CMP optimizasyonu için metal oksit nano film karakterizasyonu

Yazar Başım, Gül Bahar, Karagöz, Ayşe, Özdemir, Zeynep
Basım Tarihi 2013
Basım Yeri - ECS
Tür Belge
Dil İngilizce
Dijital Evet
Yazma Hayır
Kütüphane Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası 978-1-60768-427-5
Kayıt Numarası 6e9c7e8a-b3f3-4661-b782-65ce21c3686b
Lokasyon Makine Mühendisliği
Tarih 2013
Notlar Telif hakkı kısıtlamaları nedeniyle bu makalenin tam metnine erişim yalnızca abonelik yoluyla mümkündür.
Örnek Metin Bu makale, prosesin kimyasal bileşeninin bir sonucu olarak oluşan metal oksit ince filmlerin incelenmesi yoluyla mikroelektronik üretiminde metalik filmlerin CMP ile düzlemselleştirilmesine odaklanmaktadır. Tungsten düzlemselleştirme, metal oksit nano filmlerin cilalama sırasındaki oluşum özellikleri yoluyla malzeme giderimi sağlamadaki rolünü belirlemek için bir model olarak tartışılmaktadır. Bulgular, tungsten üzerinde, yüksek oksitleyici konsantrasyonlarında çekirdeklenme eğiliminde olan ve bulamaçtaki nano parçacıkların yüzey oksit tepecikleri ile etkileşimi yoluyla malzemenin uzaklaştırılmasını sağlayan koruyucu bir oksit film oluşumunu göstermektedir.
DOI 10.1149/05039.0003ecst
Cilt 50
Özyeğin Üniversitesi - Tarihî eser, arşiv ve süreli yayın arama motoru
Özyeğin Üniversitesi yönlendiriliyorsunuz...

Lütfen bekleyiniz.