Yazar
Vakarelski, I.U., Brown, S.C., Başım, Gül Bahar, Rabinovich, Y.I., Moudgil, B.M.
Basım Tarihi
2010-04-12
Basım Yeri
-
ACS
Konu
Kimyasal mekanik düzlemselleştirme (CMP), Atomik kuvvet mikroskobu (AFM), Triboloji, Yüzey Aktif Maddeler
Tür
Süreli Yayın
Dil
İngilizce
Dijital
Evet
Yazma
Hayır
Kütüphane
Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası
1944-8244
Kayıt Numarası
210f7d05-584a-4183-8c34-537318d9ea45
Lokasyon
Makine Mühendisliği
Tarih
2010-04-12
Notlar
Telif hakkı kısıtlamaları nedeniyle bu makalenin tam metnine erişim yalnızca abonelik yoluyla mümkündür.
Örnek Metin
Katı/sıvı arayüzündeki kendiliğinden birleşen yüzey aktif madde yapılarının, nanopartikülat dağıtıcılar olarak görev yaptığı ve sulu ortamlarda oldukça etkili, kendi kendini onaran sınır yağlama katmanı sağlayabildiği gösterilmiştir. Bununla birlikte, özellikle bazı durumlarda, kimyasal mekanik düzlemselleştirme (CMP) uygulamaları, kendi kendine birleşen yüzey aktif madde dağıtıcıları tarafından sağlanan yağlama çok güçlü olabilir, bu da istenmeyen derecede düşük aşınma seviyelerine veya sürtünmeyi devre dışı bırakan malzemenin çıkarılmasına neden olabilir. Mevcut araştırmada, kalsiyum katyonu (Ca2+) ilavesinin silika yüzeylerinin dodesil trimetilamonyum bromür (C12TAB) aracılı yağlaması üzerindeki etkisi normal ve yanal atomik kuvvet mikroskobu (AFM/LFM), tezgah üstü parlatma deneyleri ve yüzey adsorpsiyon karakterizasyon yöntemleriyle incelenmiştir. Yüzey aktif madde baş grubu yüzey afinitesini modüle eden rekabetçi adsorbe edici katyonların eklenmesinin, dağılım stabilitesinden ödün vermeden sürtünmeyi ve aşınmayı ayarlamak için kullanılabileceği gösterilmiştir. Bu kendi kendini onaran, tersine çevrilebilir ve ayarlanabilir tribolojik sistemlerin, tasarımcı parlatma bulamaçlarını ve basınç kapılı sürtünme tepkisi fenomeninden yararlanan cihazları içeren akıllı yüzey aktif madde bazlı sulu yağlama şemalarının geliştirilmesine yol açması bekleniyor.
DOI
10.1021/am100070e
Cilt
2
