توسعه فرآیند پولیش مکانیکی شیمیایی سه بعدی برای نانوساختار سطوح بیو ایمپلنت
| عنوان | توسعه فرآیند پولیش مکانیکی شیمیایی سه بعدی برای نانوساختار سطوح بیو ایمپلنت |
|---|---|
| نویسنده | اوزدمیر، زینپ، اورهان، اورجون، ببک، اوزکان، بشیم، گل بهار |
| تاریخ انتشار: | 2014 |
| محل انتشار | - ECS |
| نوع | سند |
| زبان | انگلیسی |
| دیجیتال | بله |
| نسخه خطی | خیر |
| کتابخانه: | دانشگاه اوزیغین |
| شناسه دارایی کتابخانه | 1938-5862 |
| شماره ثبت | e4a14932-ca40-4aea-b6f2-8fce9d0fc260 |
| محل کتابخانه | مهندسی مکانیک |
| تاریخ | 2014 |
| یادداشتها | با توجه به محدودیت های کپی رایت، دسترسی به متن کامل این مقاله تنها از طریق اشتراک امکان پذیر است. |
| متن نمونه | این مطالعه بر توسعه یک فرآیند پولیش مکانیکی شیمیایی سه بعدی (CMP) برای القای صافی یا زبری نانو کنترلشده روی سطوح مواد زیستی ایمپلنت، به ویژه برای کاربرد روی ایمپلنتهای دندانی تمرکز دارد. CMP به تولید سطوح ایمپلنتی کمک می کند که از لایه های سطحی بالقوه آلوده با حذف یک لایه رویی در مقیاس نانو پاک می شوند و همزمان یک لایه اکسید محافظ روی سطح ایجاد می کند تا هرگونه آلودگی بیشتر را محدود کند تا خطر عفونت به حداقل برسد. از این رو، ما CMP را به عنوان یک روش هم افزایی برای نانوساختار روی سطوح ایمپلنت پیشنهاد می کنیم و بر گسترش فرآیند به یک پلت فرم سه بعدی برای پیاده سازی آن بر روی ایمپلنت های دندانی تمرکز می کنیم. |
| DOI | 10.1149/06117.0021ecst |
| Cilt | 61 |
