ویژگی های لایه های نازک اصلاح شده شیمیایی برای بهینه سازی کاربردهای فلزات CMP؟
| عنوان | ویژگی های لایه های نازک اصلاح شده شیمیایی برای بهینه سازی کاربردهای فلزات CMP؟ |
|---|---|
| نویسنده | باشیم، گل بهار، کاراغوز، آیشه، اوزدمیر، زینپ |
| تاریخ انتشار: | 2013 |
| محل انتشار | - انتشارات دانشگاه کمبریج |
| موضوع | بیومتریال، ریزساختار، واکنش شیمیایی |
| نوع | سند |
| زبان | انگلیسی |
| دیجیتال | بله |
| نسخه خطی | خیر |
| کتابخانه: | دانشگاه اوزیغین |
| شناسه دارایی کتابخانه | 0272-9172 |
| شماره ثبت | c6f201ed-a788-4175-8687-a34b3fe49174 |
| محل کتابخانه | مهندسی مکانیک |
| تاریخ | 2013 |
| یادداشتها | با توجه به محدودیت های کپی رایت، دسترسی به متن کامل این مقاله تنها از طریق اشتراک امکان پذیر است. |
| متن نمونه | کاربردهای CMP فلزی برای دستیابی به سطحی شدن جهانی نیاز به تشکیل یک فیلم اکسید محافظ در حضور عوامل فعال سطحی، اکسید کننده ها، تنظیم کننده های pH و سایر مواد شیمیایی دارد. شکلگیری و خواص مکانیکی لایههای نازک اکسید فلزی اصلاحشده شیمیایی در CMP، تنشهای ایجاد شده در سطح مشترک را تعیین میکند که پایداری و ماهیت محافظتی لایههای تغییر یافته شیمیایی روی سطح ویفر فلزی را مشخص میکند. تعادل بین تنش های ساخته شده در ساختار فیلم در مقابل اقدامات مکانیکی ارائه شده در طول فرآیند می تواند برای بهینه سازی متغیرهای فرآیند استفاده شود و علاوه بر آن به تعریف تکنیک های جدید مسطح سازی برای تولید دستگاه های میکروالکترونیکی نسل بعدی کمک کند. در این مطالعه، مطالعات اولیه بر روی کاربردهای CMP تنگستن بسیار تثبیت شده متمرکز شد و علاوه بر این، کاربردهای CMP تیتانیوم به عنوان بخشی از روششناسی نانوساختار سطحی برای کاربردهای زیست پزشکی با تاکید بر اثر هم افزایی فیلم اکسید فلزی محافظ تیتانیوم در این کاربرد پیشرفته ارائه شد. |
| DOI | 10.1557/opl.2013.876 |
| Cilt | 1560 |
