Aramaya Dön

Kimyasal mekanik parlatmanın biyomalzeme uygulamaları

İsim	Kimyasal mekanik parlatmanın biyomalzeme uygulamaları
Yazar	Başım, Gül Bahar, Özdemir, Zeynep, Mutlu, Ö.
Basım Tarihi:	2012
Basım Yeri	- IEEE
Konu	CMP, Titanyum implantlar, Biyomalzemeler, Mikro desenleme
Tür	Belge
Dil	İngilizce
Dijital	Evet
Yazma	Hayır
Kütüphane:	Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası	978-3-8007-3452-8
Kayıt Numarası	e1a08db9-cd91-449d-9eb8-1f2ea356cfa4
Lokasyon	Makine Mühendisliği
Tarih	2012
Notlar	Telif hakkı kısıtlamaları nedeniyle bu makalenin tam metnine erişim yalnızca abonelik yoluyla mümkündür.
Örnek Metin	Kimyasal Mekanik Parlatma (CMP), yarı iletken endüstrisinde ara katman dielektriklerin ve metallerin düzlemselleştirilmesini sağlamak için kullanılır. Bu çalışmada CMP, biyo-implant materyallerinin yüzey pürüzlülüğünü kontrollü bir şekilde değiştirmek için bir cilalama tekniği olarak kullanılmıştır. İmplant yüzeyleri üzerinde kum püskürtme/aşılama veya lazer yapılandırmaya alternatif bir teknik olarak CMP, titanyum yüzeyleri üzerinde, biyoaktiviteyi arttırdığı bilinen yüzey nano yapılanmasını mümkün kılarken yüzey kirlenmesini sınırlayabilen koruyucu bir oksit tabakasının oluşmasına neden olur. Anahtar Kelimeler: CMP, Titanyum İmplantlar, Biyomalzemeler, Mikro Desenleme.

Kaynağa git Özyeğin Üniversitesi Özyeğin Üniversitesi - Tarihî eser, arşiv ve süreli yayın arama motoru

Özyeğin Üniversitesi

Kimyasal mekanik parlatmanın biyomalzeme uygulamaları

Yazar Başım, Gül Bahar, Özdemir, Zeynep, Mutlu, Ö.

Basım Tarihi 2012

Basım Yeri - IEEE

Konu CMP, Titanyum implantlar, Biyomalzemeler, Mikro desenleme

Tür Belge

Dil İngilizce

Dijital Evet

Yazma Hayır

Kütüphane Özyeğin Üniversitesi

Demirbaş Numarası 978-3-8007-3452-8

Kayıt Numarası e1a08db9-cd91-449d-9eb8-1f2ea356cfa4

Lokasyon Makine Mühendisliği

Tarih 2012

Notlar Telif hakkı kısıtlamaları nedeniyle bu makalenin tam metnine erişim yalnızca abonelik yoluyla mümkündür.

Örnek Metin Kimyasal Mekanik Parlatma (CMP), yarı iletken endüstrisinde ara katman dielektriklerin ve metallerin düzlemselleştirilmesini sağlamak için kullanılır. Bu çalışmada CMP, biyo-implant materyallerinin yüzey pürüzlülüğünü kontrollü bir şekilde değiştirmek için bir cilalama tekniği olarak kullanılmıştır. İmplant yüzeyleri üzerinde kum püskürtme/aşılama veya lazer yapılandırmaya alternatif bir teknik olarak CMP, titanyum yüzeyleri üzerinde, biyoaktiviteyi arttırdığı bilinen yüzey nano yapılanmasını mümkün kılarken yüzey kirlenmesini sınırlayabilen koruyucu bir oksit tabakasının oluşmasına neden olur. Anahtar Kelimeler: CMP, Titanyum İmplantlar, Biyomalzemeler, Mikro Desenleme.