Yazar
Francoeur, M., Mengüç, Mustafa Pınar, Vaillon, R.
Basım Tarihi
2010
Basım Yeri
-
Fizik Enstitüsü
Konu
Yoğun madde: elektriksel, manyetik ve optik, Yarı iletkenler, Yüzeyler, arayüzler ve ince filmler
Tür
Süreli Yayın
Dil
İngilizce
Dijital
Evet
Yazma
Hayır
Kütüphane
Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası
1361-6463
Kayıt Numarası
768a2447-fb2e-4f00-b890-663f705bd13a
Lokasyon
Makine Mühendisliği
Tarih
2010
Notlar
Telif hakkı kısıtlamaları nedeniyle bu makalenin tam metnine erişim yalnızca abonelik yoluyla mümkündür.
Örnek Metin
Vakumda dalga boyu altı mesafelerle ayrılan iki ince silisyum karbür film arasındaki ışınımsal ısı akışının spektral dağılımları analiz edilir. Film yansıma ve iletim katsayıları açısından sonlu kalınlıktaki iki katman arasındaki yakın alan akısı için ilk kez analitik bir ifade elde edildi. Ortaya çıkan denklem, termal emisyonun, absorpsiyonun rezonans modlarını ve katmanlar arasındaki yüzey fonon-polaritonlarının (SPhP'ler) çapraz bağlanmasını açıkça göstermektedir. Filmler aynı kalınlıkta olduğunda, yakın alan termal emisyonunu maksimuma çıkaran rezonans frekansları, absorpsiyonunkilerle neredeyse eşleşir. Filmler arasındaki SPhP bağlantısından kaynaklanan küçük farklılıklar, çoğunlukla düşük frekans modunu etkileyen spektral tutarlılık kaybına yol açar. Akı profilleri aynı zamanda rezonansın iki farklı frekansa bölünmesinin, filmin ayırma aralığı üzerindeki kalınlık oranı birden az olduğunda meydana geldiğini göstermektedir. Bir filmin kalınlığı diğerine göre arttığında, yüksek emisyon ve absorpsiyonun rezonans frekansları arasındaki önemli uyumsuzluk nedeniyle akının spektral dağılımları önemli ölçüde değişir. Yakın alan akısındaki bu değişiklik çoğunlukla artan kalınlıktaki katman içindeki zayıf SPhP birleşiminden kaynaklanmaktadır. Dispersiyon ilişkisinin asimptotik analizine dayanarak, potansiyel olarak birden fazla ince katmana genişletilebilen iki film arasındaki akıyı maksimuma çıkaran rezonans modlarını tahmin etmek için yaklaşık bir yaklaşım önerilmektedir. Bu çalışmanın sonucu, yakın alan ışınımlı ısı transferinin uyarlanmasına olanak tanıyacak ve en sonunda enerji hasadı uygulamaları için özelleştirilmiş nanoyapıların tasarlanması için kullanılabilecektir.
Cilt
43
