Yazar
Başım, Gül Bahar, Karagöz, Ayşe
Basım Tarihi
2016
Basım Yeri
-
Elektrokimya Topluluğu
Konu
Karakterizasyon, Kimyasal mekanik parlatma, Dielektrik malzemeler, Metalik bileşikler, Metaller, Mikroelektronik, Oksit filmler, Yarı iletken cihaz imalatı, Yarı iletken cihazlar, Yarı iletken malzemeler
Tür
Süreli Yayın
Dil
İngilizce
Dijital
Evet
Yazma
Hayır
Kütüphane
Özyeğin Üniversitesi
Demirbaş Numarası
1938-5862
Kayıt Numarası
7d6a6dbc-1c36-44f6-b2df-e34f0cc51ead
Lokasyon
Makine Mühendisliği
Tarih
2016
Örnek Metin
Bu çalışma, atom ölçeğinde cihazlarla uğraşan yeni nesil yarı iletken endüstrisindeki proses gelişimine temel oluşturmayı amaçlamaktadır. Mikroelektronik endüstrisinde metalik, yarı iletken ve dielektrik malzemeler için mevcut ve gelecekteki yarı iletken malzemelerde kullanıldığı için CMP prosesinin geliştirilmesine odaklanıyoruz. Özellikle metalik katmanlar için CMP kaynaklı metal oksit ince filmlerin oluşumu ve atomik seviyede uzaklaştırılma mekanizmaları ve yarı iletken filmler için kimyasal olarak modifiye edilmiş hidratlı katman etkileşimi, yeni nesil cihaz imalatının odak noktası olarak sunulmaktadır.
DOI
10.1149/07203.0067ecst
